镀通孔雙面板以上完成鑽孔後即進行鍍通孔(PlatedThroughHole,PTH)步驟,其目的使孔壁上之非導體部份之樹脂及玻纖束進行金屬化(metalization),以進行後來之電鍍銅製程,完成足夠導電及焊接之金屬孔壁
1986年,美國有一家化學公司Hunt宣佈PTH不再需要傳統的貴金屬及無電銅的金屬化製程,可用碳粉的塗佈成為通電的媒介,商名為"Blackhole"
之後陸續有其他不同base產品上市,國內使用者非常多
除傳統PTH外,直接電鍍(directplating)本章節也會述及
2製造流程→→去毛頭除膠渣PTHa一次銅7
去巴里(deburr)鑽完孔後,若是鑽孔條件不適當,孔邊緣有1
未切斷銅絲2
未切斷玻纖的殘留,稱為burr
因其要斷不斷,而且粗糙,若不將之去除,可能造成通孔不良及孔小,因此鑽孔後會有de-burr製程
也有de-burr是放在Desmear之後才作業
一般de-burr是用機器刷磨,且會加入超音波及高壓沖洗的應用
除膠渣(Desmear)A
Desmearb
CreateMicro-rough增加adhesionB
Smear產生的原因:由於鑽孔時造成的高溫Resin超過Tg值,而形成融熔狀,終致產生膠渣
此膠渣生於內層銅邊緣及孔壁區,會造成P
(Poorlnterconnection)C
Desmear的四種方法:硫酸法(SulfericAcid)、電漿法(Plasma)、鉻酸法(CromicAcid)、高錳酸鉀法(Permanganate)
硫酸法必須保持高濃度,但硫酸本身為脫水劑很難保持高濃度,且咬蝕出的孔面光滑無微孔,並不適用
電漿法效率慢且多為批次生產,而處理後大多仍必須配合其他濕製程處理,因此除非生產特殊板大多不予採用
鉻酸法咬蝕速度快,但微孔的產生並不理想,且