PECVD详细介绍VIP免费

PECVD介绍PECVD工作原理PECVD结构介绍PECVD控制系统简介PECVD报警系统介绍PECVD操作系统介绍PECVD工艺气体特点简介PECVD工作程序介绍PECVD工艺分析与操作注意事项工作原理：CentrothermPECVD系统是一组利用平行板镀膜舟和高频等离子激发器的系列发生器。在低压的情况下，等离子发生器直接在，装在镀膜板中间的介质的中间发生反应。所用的活性气体为硅烷SiH4和氨NH3。可以根据改变硅烷对氨的比率，来得到不同的折射指数。在沉积工艺中，伴有大量的氢原子和氢离子的产生，使得晶片的氢钝化性十分良好。PECVD的原理及作用PECVD设备结构晶片装载区炉体特气柜真空系统控制系统PECVD设备结构示意图●上下载部分:有电脑系统,净化风机,机械手等部分;主要作用:电脑是整个系统的控制中枢,净化风机起局部环境净化作用同时也是上料和下料部分.●废气室:有炉门排风系统组成;主要作用:为了保持扩散炉管内良好的密封性能,并将未能从尾气管排出的残留废气及时抽走,防止废气泄露.●炉体部分:由加热电阻丝组成;主要作用:通过大电流发热满足工艺要求的扩散温度.●气柜部分:由所需的各种气路,流量计及.主要作用:为工艺提供所需的气体流量.简要部分介绍上下装载区：桨、LIFT、抽风系统、SLS系统。桨：由碳化硅材料制成，具有耐高温、防变形等性能。作用是将石墨舟放入或取出石英管。LIFT：机械臂系统，使舟在机械臂作用下在小车、桨、储存区之间互相移动。抽风系统：位于晶片装载区上方，初步的冷却石墨舟和一定程度的过滤残余气体SLS系统：软着陆系统，控制桨的上下，移动范围在2—3厘米PECVD设备结构载片区部分介绍机械手桨小推车操作平台指示灯炉门石墨舟电极口炉体：石英管、加热系统、冷却系统石英管：炉体内有四根石英管，是镀膜的作业区域，耐高温、防反应。加热系统：位于石英管外，又五个温区。PECVD设备结构加热反应室热电偶1ＴＭＭ６炉管内部电极热电偶２窗口窗口电极热电偶2排气口炉管后段PECVD设备结构冷却系统：是一套封闭的循环水系统，位于加热系统的金属外壳，四进四出并有一个主管道，可适量调节流量大小。冷却水系统进水口出水口特气柜：MFC气动阀MFC：气体流量计（NH3SiH4N2等）气动阀：之所以不用电磁阀是因为电磁阀在工作时容易产生火花，而气动阀可以最大程度的避免火花。PECVD设备结构真空系统真空泵：每一根石英管配置一组泵，包括主泵和辅助泵。蝶阀：可以根据要求控制阀门的开关的大小，来调节管内气压的PECVD设备结构PECVD控制系统主要从事的是下面的四种控制系统1PECVD真空的控制2PECVD的机械手的控制3PECVD的特气控制4PECVD的电器控制PECVD控制系统控制系统CMI：是Centrotherm研发的一个控制系统，其中界面包括Jobs、System、Datalog、Setup、Alarms、Help.Jobs:机器的工作状态。System:四根管子的工作状态，舟的状态以及手动操作机器臂的内容。Datalog:机器运行的每一步。PECVD控制系统CMI-accessgatetoCESARSMenuformanualoperations温度控制系统PECVD日常报警说明管式PECVD日常报警说明Processrecipehasterminatedwitherrorstate----AlarmACK----(1)tostore(2)tostoreenableunload(3)Restartrecipe.说明：进行中的工艺以错误的状态结束----警报确认----（1）储存（2）储存并卸下（3）重新开始工艺。(1)用错工艺号，手动结束工艺，重新开始新的其它工艺时进行选择。(2)多数情况下选择此项。；(3)工艺中断需要重新进行时选择，选择前应查看镀膜情况。1管式PECVD日常报警说明Boatalreadyintube----select:[process=0unload=1].说明：石墨舟已经在管内----选择[运行工艺=0取出卸下=1]。当管内有石墨舟时，异常排除后手动运行工艺时会出现这样的提示，查看镀膜情况后在做选择。2管式PECVD日常报警说明Losthoming,checkposition.说明：失去引导，检查位置。此报警会自动解除，只需要检查一下桨是否在原点的位置即可。3管式PECVD日常报警说明HFGenoutof1st(2nd)tolerance.说明：高频发生器超过第一（二）个位置，如果在镀膜中退出，如已经沉积到氮化硅，检查镀膜时间后，选择手动工艺输入剩余...