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方块电阻测试介绍ECVSIMS方块电阻怎样快速表征硅片扩散性能?(浓度、深度、均匀性)12四探针方阻测试原理34方块电阻测试方法方块电阻定义测试方阻时需注意的问题方块电阻,又叫薄层电阻、面电阻,是指表面为正方形导电薄层的电阻值,它与正方形薄层边长无关,而与薄层电阻率和厚度有关,计算公式为:其中,ρ为薄层电阻率,l为所选正方形边长,Xj为薄层厚度·shjjlRlXXllXj测量电阻率的方法很多,如两探针法,四探针法,单探针扩展电阻法以及现在正在流行的一些非接触测试方法。由于扩散层非常薄(厚度仅1μm左右),探针1流出的电流可认为在以探针1为中心的表面散开,等势面是以探针1以中心的圆柱面,在距中心r处电流密度:所以,距中心r处电场强度为:探针1和4分别看作流入点流源和流出点流源,则探针2和3之间电压差为:2jIIjArX(2=)IjErjXr2223232=ln2ssjjssIdrIVVVEdrXrX232shjVRXI㏑这就是四探针法测无穷大薄层的方块电阻的公式,为准确测量,要求样品厚度Xj远比探针间距S小,样品尺寸远远大于探针间距,对于不满足条件的样品,采用以下修正公式:23shVRCIC为修正因子,与薄层的几何尺寸有关;结合上式,得到:如果被测导电薄膜材料表面上不干净,存在油污或材料暴露在空气中时间过长,形成氧化层,会影响测试精度;由于探针有少子注入及探针移动存在,所以在测量中可以进行正反两个方向电流测量,然后取其平均值以减小误差;电流选择要适当,太小会影响测试精度,太大会引起发热或非平衡载流子注入;对于高阻及光敏感性材料测试时,光电导效率会影响测量,应在暗室进行;对于大面积硅片测试时一般采用五点法测试,选取最大值点与最小值点反映硅片方块电阻均匀性;1、分析四探针法方块电阻测试误差来源,指出与区别与条件是什么?2、比较二探针法和四探针法测量有何不同232shVRI㏑23shVRCI

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