电池片生产工艺流程VIP专享VIP免费

电池片生产工艺流程一、制绒a・目的在硅片的表面形成坑凹状表面，减少电池片的反射的太阳光，增加二次反射的面积。一般情况下，用碱处理是为了得到金字塔状绒面；用酸处理是为了得到虫孔状绒面。不管是哪种绒面，都可以提高硅片的陷光作用。b・流程1.常规条件下，硅与单纯的 HF、HNO3（硅表面会被钝化，二氧化硅与HNO3不反应）认为是不反应的。但在两种混合酸的体系中，硅则可以与溶液进行持续的反应。硅的氧化硝酸/亚硝酸（HN02）将硅氧化成二氧化硅（主要是亚硝酸将硅氧化）Si+4HNO3=SiO2+4NO2+2H2O（慢反应）3Si+4HNO3=3SiO2+4NO+2H2O（慢反应）二氧化氮、一氧化氮与水反应，生成亚硝酸，亚硝酸很快地将硅氧化成二氧化硅。2NO2+H2O=HNO2+HNO3（快反应）Si+4HNO2=SiO2+4NO+2H2O（快反应）（第一步的主反应）4HNO3+NO+H2O=6HNO2（快反应）只要有少量的二氧化氮生成，就会和水反应变成亚硝酸，只要少量的一氧化氮生成，就会和硝酸、水反应很快地生成亚硝酸，亚硝酸会很快的将硅氧化，生成一氧化氮，一氧化氮又与硝酸、水反应，这样一系列化学反应最终的结果是造成硅的表面被快速氧化，硝酸被还原成氮氧化物。二氧化硅的溶解SiO2+4HF=SiF4+2H2O（四氟化硅是气体）SiF4+2HF=H2SiF6426总反应SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O2262最终反应掉的硅以氟硅酸的形式进入溶液。2. 清水冲洗3. 硅片经过碱液腐蚀（氢氧化钠/氢氧化钾），腐蚀掉硅片经酸液腐蚀后的多孔硅4. 硅片经 HF、HC1 冲洗，中和碱液，如不清洗硅片表面残留的碱液，在烘干后硅片的表面会有结晶5•水冲洗表面，洗掉酸液c・注意制绒后的面相对于未制绒的面来说比较暗淡d・现场图奥特斯维电池厂采用 RENA 的设备。二、扩散a・目的提供 P-N 结，POC13是目前磷扩散用得较多的一种杂质源。POC13液态源扩散方法具有生产效率较高，得到 PN 结均匀、平整和扩散层表面良好等优点。b・原理POCl3在高温下（＞600°C）分解生成五氯化磷（PCl5）和五氧化二磷（P2O5），其反应式如下：＞600°C5POC1/〜＞3PC1+PO3525但在有外来 02存在的情况下，PC15会进一步分解成 P2O5并放出氯气（C12）其反应式如下：过量 Op 水4PC1+5O—2PO+10ClT52252在有氧气的存在时，POCl3热分解的反应式为：4POQ+5O>2PO+6ClT32252生成的 P2O5 在扩散温度下与硅反应，生成二氧化硅（SiO2）和磷原子，其反应式如下：2PO+5Si 二 5SiO+4PI252c・结论由此可见，在磷扩散时，为了促使 POC13 充分的分解和避免 PC15 对硅片表...