蓝宝石衬底清洗工艺店店旺营销软件站www.ddw6.com1、引言2、污染物杂质分类3、清洗的设备仪器4、清洗的工艺流程5、清洗间的操作规范6、硫酸溶液的安全使用付星星2011-7-141，引言近二十年来，氮化镓基发光二极管(GaN-basedLEDs)取得了飞跃式发展，并实现了大规模的产业化生产。GaN-basedLEDs 由于其高效、节能、环保等优越性能，将取代现有的白炽灯、荧光灯、卤化灯等而成为主流的固态照明工具。然而，同质外延生长所用的高质量 GaN 衬底的价格昂贵且远不能满足大规模生产的需求。现有的外延衬底大部分仍是蓝宝石，由于蓝宝石与 GaN 材料存在晶格失配和热失配等缺点，这阻碍了 GaN 晶体质量的提高，从而导致了 GaN 发光器件性能的进一步提高。大量研究表明，图形化蓝宝石衬底(PatternedSapphireSubstrate,PSS)有利于降低晶体的位错密度和应力释放，从而大大改善 GaN 晶体的质量和 GaN 基发光器件的性能。目前，世界各国在图形化蓝宝石衬底(PSS)的制备工艺上还没有一个相对成熟和标准化的清洗方法。中镓半导体科技有限公司在蓝宝石衬底的清洗方法上进行了大量的研究和改进。在此，我们对蓝宝石衬底清洗工艺中的仪器设备、工艺流程、操作规范及注意事项等进行了规范和总结。2，污染物杂质分类蓝宝石制备需要有一些有机物和无机物参与完成，另外，在 PSS的制备过程中总是在人的参与下在超净间进行，这样就不可避免的产生各种环境对蓝宝石及 PSS 污染的情况发生。根据污染物发生的情况，大致可将污染物分为颗粒、有机物、金属污染物及其他。(1)颗粒颗粒主要是一些聚合物，光刻胶及刻蚀杂质等。通常的颗粒粘附在晶片表面，根据颗粒与表面的粘附情况分析，其粘附力主要是范德瓦尔斯吸引力，所以，对颗粒只要采取物理或化学的方面进行清除，逐渐减少颗粒与晶片的接触面积，最终将其去除。(2)有机物有机物杂质在 PSS 制备中以多种形式存在，如人的皮肤油脂，净化室的空气、机械油、机硅树脂真空脂、光刻胶残余物、清洗溶剂等。每种污染物都对 PSS 的制备过程有不同程度的影响，通常在晶片表面形成有机薄膜阻止清洗液到达晶片表面，因此，有机物的去除常常在清洗工序的第一步进行。(3)金属污染物蓝宝石本身的化学机械抛光过程会潜在引入金属污染源。(4)其他污染物在清洗过程中，也可能会引入污染物，如，SPM 具有强氧化性，会使有机残余物被氧化、碳化、硫化等，生成物粘附在晶片表面，不易去除。3，清洗的设备仪器主要以湿法清洗为主...
