DMU 空间分析 CATIA 的DMU 空间分析模块可以进行设计的有效性评价。它提供丰富的空间分析手段,包括产品干涉检查、剖面分析和 3D 几何尺寸比较等。它可以进行碰撞、间隙及接触等计算,并得到更为复杂和详尽的分析结果。它能够处理电子样机审核及产品总成过程中经常遇到的问题,能够对产品的整个生命周期(从设计到维护)进行考察。DMU 空间分析能够处理任何规模的电子样车,它适用于从日用工具到重型机械行业的各种企业。 X.1 相关的图标菜单 CATIA V5 的空间分析模块由一个图标菜单组成: 空间分析(DMU Space Analysis) Clash: 干涉检查 Sectioning: 剖面观察器 Distance and Band Analysis: 距离与自定义区域分析 Compare Products: 产品比较 Measure Between: 测量距离和角度 Measure Item: 单项测量 Arc through Three Points: 测量过三点的圆弧 Measure Inertia: 测量惯量 3D Annotation: 三维注释 Create an Annotated View: 建立注释视图 Managing Annotated Views: 管理注释视图 Groups: 定义产品组 x.2 空间分析模块的环境参数设定 在开始使用 CATIA V5 的空间分析模块前,我们可以根据自身的习惯特点,合理地设定其环境参数。在菜单栏中使用下拉菜单 ToolsÆOptionÆDigital Mockup 打开 DMU Space Analysis 的环境参数设定界面,在此窗口中有六个标签,分别对应不同的参数设定。 x.2.1 干涉检查设置(DMU Clash) 该设置针对Clash 命令,允许设置以下内容: Retrieve Information:得到干涉的结果 From previous computation:从前一个计算得到分析结果 From PDM(UNIX only with ENOVIAVPM):从PDM 中得到分析结果(在UNIX 系统下是ENOVIA VPM) None :(缺省)无比较 Results Window /Automatically open:当进行干涉检查时自动打开结果显示窗口 Display in Results box:设置缺省的显示条目 list by conflict:冲突列表 list by product:产品列表 First line automatically selected:(缺省)自动选择冲突列表或产品列表的第一行 Type of Computation:设置冲突的缺省类型和缺省的安全距离 During Initial Computation:计算并显示所有冲突的深度和最小距离 x.2.2 干涉检查细节设置(DMU Clash – Detailed Computation) 该设置针对Clash 命令,允许设置以下内容: Lev el of Detail:设置细节的级别 E...