精品文档---下载后可任意编辑磁控溅射 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜的制备及摩擦学性能讨论的开题报告一、讨论背景和意义钨是一种重要的高温结构材料，在制造高温构件和耐磨件等领域有广泛的应用。钨的摩擦学性能并不理想，主要表现为磨损、摩擦系数较大等问题。为了改善钨的摩擦学性能，通常采纳钨合金化的方法。而 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜是一种新型的钨合金化方法，其具有良好的耐磨性、腐蚀性和高温稳定性等特点，在机械、电子、航空等领域有着广泛的应用。二、讨论目的本文旨在讨论磁控溅射 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜的制备方法和摩擦学性能，进一步优化制备工艺和改善摩擦学性能。三、讨论内容和方法（一）磁控溅射 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜的制备方法本文将采纳磁控溅射的方法制备 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜，通过改变制备工艺参数（如溅射功率、靶材组成、气氛等）来控制薄膜的厚度、成分和微观结构。同时，对制备过程中的工艺参数、设备参数和溅射条件等进行优化，以实现制备高品质的薄膜。（二）Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜的表征分析通过 X 射线衍射分析、扫描电子显微镜分析等手段对制备的薄膜进行成分、组织结构和形貌等方面的表征分析，以确定薄膜的物理化学性质和微观结构。（三）Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜的摩擦学性能讨论通过摩擦学实验检测 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2 薄膜的摩擦系数、磨损量等指标，探究其摩擦学性能，并对其性能进行对比分析。四、预期讨论结果估计能够得到优化的制备工艺和高品质的 Ti-W-N 和 Ti-W-N/MoS2薄膜，同时探究其摩擦学性能，并提出改善措施，为相关领域的应用提供技术支持和理论参考。五、讨论进度安排精品文档---下载后可任意编辑1. 文献综述：2024 年 1 月-2024 年 2 月2. 薄膜制备：2024 年 3 月-2024 年 6 月3. 薄膜表征：2024 年 7 月-2024 年 9 月4. 摩擦学性能讨论：2024 年 10 月-2024 年 1 月5. 数据分析和论文撰写：2024 年 2 月-2024 年 4 月6. 论文修改和答辩准备：2024 年 5 月-2024 年 6 月六、讨论经费预算磁控溅射设备使用费：5000 元/月×12 个月=6 万元材料采购费用：3 万元实验室耗材费用：2 万元合计：11 万元
