精品文档---下载后可任意编辑Si3N4 基陶瓷的制备及性能讨论的开题报告一、选题背景及意义Si3N4 基陶瓷具有高温强度、耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等特别性能，在航天、航空、汽车和电子等领域应用广泛。然而，目前 Si3N4 基陶瓷制备及性能讨论中仍存在一些问题，如制备工艺不稳定、性能需进一步提高等。因此，本讨论旨在探究一种高效、稳定的 Si3N4 基陶瓷制备工艺，以及针对其性能进行深化讨论，为该陶瓷材料的应用提供新的理论依据和实践经验。二、讨论方法和步骤1. 实验室合成 Si3N4 基陶瓷原材料；2. 采纳不同的制备工艺制备 Si3N4 基陶瓷，如热压烧结、电子束熔化等；3. 对制备工艺中的参数进行优化；4. 对不同制备工艺得到的 Si3N4 基陶瓷进行性能测试，如力学性能测试、烧蚀性能测试、氧化性能测试等；5. 对比不同制备工艺得到的 Si3N4 基陶瓷性能，并分析其差异原因。三、预期结果通过本讨论，估计可以找到一种高效稳定的 Si3N4 基陶瓷制备工艺，并且取得优异的力学性能、烧蚀性能和氧化性能等方面的表现。同时，也可以为该陶瓷的应用提供理论依据和实践经验。四、讨论意义1. 在航天、航空、汽车和电子等领域提高 Si3N4 基陶瓷的应用性能；2. 探究新的 Si3N4 基陶瓷制备工艺，提高其制备效率和稳定性；3. 为其他陶瓷材料的制备和性能讨论提供借鉴。
