真 空 镀 膜 实 验 真 空 镀 膜 主 要 指 一 类 需 要 在 较 高 真 空 度 下 进 行 的 镀 膜 ， 具 体 包 括 很 多 种 类 ， 包 括 真 空 离 子 蒸 发 ， 磁 控 溅 射 ， MBE 分 子 束 外 延 ， PLD 激 光 溅 射 沉 积 等 很 多 种 。 主 要 思 路 是 分 成 蒸 发 和 溅 射 两 种 。 需 要 镀 膜 的 被 成 为 基 片 ， 镀 的 材 料 被 成 为 靶 材 。 基 片 与 靶 材 同 在 真 空 腔 中 。 蒸 发 镀 膜 一 般 是 加 热 靶 材 使 表 面 组 分 以 原 子 团 或 离 子 形 式 被 蒸 发 出 来 ， 并 且 沉 降 在 基 片 表 面 ， 通 过 成 膜 过 程（ 散 点 － 岛 状 结 构 -迷 走 结 构 -层 状 生 长 ） 形 成 薄 膜 。 对 于 溅 射 类 镀 膜 ， 可 以 简 单 理 解 为 利 用 电 子 或 高 能 激 光轰 击 靶 材 ， 并 使 表 面 组 分 以 原 子 团 或 离 子 形 式 被 溅 射 出 来 ， 并 且 最 终 沉 积 在 基 片 表 面 ， 经 历 成 膜 过 程 ， 最 终形 成 薄 膜 ::实 验 内 容 :: [引 言 ] 所 谓 真 空 镀 膜 就 是 指 在 真 空 中 将 金 属 或 金 属 化 合 物等 沉 积 在 基 体 表 面 上。从技术角度 可 分 为 40 年代开始的 蒸 发 镀 膜 ， 溅 射 镀 膜 和 70 年代才发 展起来 的 离 子 镀 膜 、束 流沉 积 等 四种 。 真 空 镀 膜 能 在 现代科技和 工业生 产中 得到广泛应用 ， 主 要 在 于 它具 有以 下 的 优点 ：①它可 用 一 般 金 属 （ 铝，钛 等 ） 代替 日 益 缺 乏 的 贵 重 金 属 （ 金 ， 银 ） 并 使 产品 降 低 成 本 ， 提 高 质 量 ， 节 省 原 材 料 。 ② 由 于 真 空 分 子 碰 撞 少 ， 污 染 少 ， 可 获 得表 面 物理 研 究中 所 要 求 的 纯 净 ， 结 构 致 密 的 薄 膜 。 ③ 镀 膜 时 间 和 速 度 可 准 确 控 制 ， 所 以 可 得到任 意 厚 度 均 匀 或 非 均 匀 薄 膜 。 ④ 被 镀 件 和 蒸 镀 物均 可 是 金 属 或 非...
