2010届高三化学一轮复习学案：《硅及其化合物》VIP专享

2010 届高三化学一轮复习学案：硅及其化合物 复习目标：1、掌握硅、二氧化硅的主要性质及这些性质在材料中的应用2、了解传统的硅酸盐制品和一些新型无机非金属材料在生产、生活中的重要作用知识梳理：一、硅⑴ 硅的物理性质 单质硅是 晶体，硬度大，熔沸点高，是一种 色，有 的固体，是良好的 材料。（2）化学性质 硅的化学性质 ，常温下除 外，一般不与其他物质反应，加热时可与O2、CI2等反应。 Si + NaOH Si + O2 （3）硅的用途二、二氧化硅1、SiO2是 结构的 晶体，熔沸点 ，硬度 ，不溶于水。2、化学性质常温下除 外，一般不与其他物质反应。在高温下能发生一系列反应。 NaOH CaO SiO2 + CaCO3 HFC 3、粗硅的工业制备4、用途三、硅酸1、硅酸（H2SiO3）、原硅酸（H4SiO4）为不溶于水的弱酸，酸酐都是 ，原硅酸不稳定，在空气中易失水形成硅酸： 。2、硅酸的制备四、硅酸盐1、硅酸钠水溶液俗称 ，在空气中会变质： 。2 、 硅 酸 盐 常 表 示 成 氧 化 物 的 形 式 ： 金 属 氧 化 物 ·SiO2·H2O 。 例 如 Na2SiO3 可 表 示 为Na2O·SiO2；高岭石[AI2(Si2O5)(OH)4]可表示为 ；正长石(KAISi3O8)可表示为 。五、无机非金属材料传统无机非玻璃原料设备成分水泥原料设备成分金属材料陶瓷原料制造过程六、硅及其化合物的转化关系：【典型例题】1．（08 广东卷）硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：(1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：① 写出由纯 SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。② 整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成 H2SiO3、HCl 和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；H2还原 SihCl3过程中若混 02，可能引起的后果是 。(2）下列有头硅材料的详法正确的是 ( 填字母）。A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡 。写出实验现象并给予解释 。(1) ① 写出由纯 SiHCl3 制备高纯硅的化学反应方程式:SiHCl3+H2==(1357K)== Si+3HCl②SiHCl3 遇水剧烈反应生成 H2SiO3、HCl 和另一种...