目 录中文摘要：.................................................................1英文摘要：.............................................................21 绪论................................................................31.1 大尺寸平板玻璃镀膜设备的进展....................................31.2 磁控溅射技术的最新进展..........................................32 磁控溅射原理及溅射沉积工艺参数......................................42.1 磁控溅射法的原理................................................42.2 磁控溅射的工艺参数..............................................43 大平面磁控溅射镀膜玻璃生产线........................................63.1 大尺寸磁控溅射镀膜玻璃生产线的组成..............................63.2 平面磁控溅射镀膜玻璃生产线的分类................................74 磁控溅射镀膜真空室的设计要求与原则..................................84.1 设计参数........................................................84.2 磁控溅射镀膜真空室的主要设计原则................................84.3 磁控溅射镀膜室对抽气系统的要求..................................95 磁控溅射真空镀膜室主要部分的设计与计算.............................105.1 真空室壳体的设计与计算.........................................105.1.1 真空室壳体的类型选择.....................................105.1.2 真空室壳体的计算与校核...................................105.2 传动系统的设计与计算...........................................125.2.1 传动方式的选择...........................................125.2.2 变频电机的确定...........................................135.2.3 传动轴的计算与校核.......................................135.2.4 V 带传动的设计与计算......................................145.2.5 轴承的配置与轴承座的选定.................................155.2.6 轴承密封与传动轴动密封的设计.............................165.3 平面磁控溅射靶的选择与计算.....................................165.3.1 平面磁控溅射靶的类型选择.................................165.3.2 平面磁控溅射靶水冷系统的设计与计算.........
