--------------------------场效应管简介场效应晶体管(FieldEffectTransistor缩写(FET))简称场效应管
由多数载流子参与导电,也称为单极性晶体管
它属于电压控制型半导体器件
具有输入电阻高(810~910Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者
场效应管的外形与普通晶体管一样,但工作原理不同
普通晶体管是电流控制器件,通过控制积极电流达到控制集电极电流或发射级电流
场效应管是电压控制器件,其输出电流决定于输入信号电压的大小,即管子的电流受控于栅极电压
二次击穿:对于集电极电压超过CEOV而引起的击穿,只要外电路限制击穿后的电流,管子就不会损坏,如果此时电流继续增大,引发的不可逆的击穿,称为二次击穿
种类和结构场效应管分为两类,一类是结型场效应管,简称JFET;另一类是绝缘栅型场效应管,简称IGFET
目前广泛应用的绝缘栅型场效应管是金属-氧化物-半导体场效应管,简称MOSFET
场效应管有三个电极:源级(S)、栅极(G)、漏极(D),且可分为P沟道型与N沟道型两种
--------------------------工作原理场效应管工作原理用一句话说,就是“漏极-源极间流经沟道的DI,用以栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压控制DI”
更正确地说,DI流经通路的宽度,即沟道截面积,它是由pn结反偏的变化,产生耗尽层扩展变化控制的缘故
在GSV=0的非饱和区域,表示的过渡层的扩展因为不很大,根据漏极-源极间所加DSV的电场,源极区域的某些电子被漏极拉去,即从漏极向源极有电流DI流动
从栅极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,DI饱和
将这种状态称为夹断
这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断
在过渡层由于没有电子、空穴的