第1页共6页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第1页共6页HeliosInline-tn电池片薄膜测量-SiNx膜厚,折射率系数第2页共6页第1页共6页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第2页共6页HeliosInline-tn减反射膜的表面钝化(surfacepassivation)和扩散势垒(diffusionbarriera)对晶硅电池片的转换效率和长期稳定性起着很重要的作用,性能好的(a-SiNx:H)薄膜广泛的应用于此
而工艺参数的控制比如气压和温度等,对电池片AR膜膜厚,颜色和光学常数n&k有很大的影响
一般来说,要花费很多时间和熟练的技巧来获得精确的数据,以此来支持生产工艺的优化
在线测量AudioDev提供独一无二的膜厚折射率测量设备,HeliosInline-tn是可以集成到现有的电池生产在线使用
通过寻找工艺上的不稳定性的原因,来提高电池的质量和转换效率
比如,镀膜的不均匀性,镀膜机参数漂移,硅片切割工艺和制绒工艺上的不均一性都会影响电池的质量和效率
测量示例Helios-Inline-tn集锦晶硅测量–膜厚:d–折射率测量:N(光谱)产品线使用/R&D部门使用-在线/每一片硅片测量-非破坏式和非接触式-静态和动态测量应用在所有相关晶硅电池–多晶&单晶(抛光,粗糙,组织化)应用在所有相关的组织化结构–等方性和各异性的化学腐蚀–RIE(离子腐蚀)应用在所有相关的工艺–PE-Cvd–磁控溅射集成示例对角线扫描5X5组电池在线操作此系统是在生产线上运行,直接放在镀膜设备后面
扫描测量每一片单独的硅片(每片几个点)或者测量对角线上的电池片(每片几个点)第3页共6页第2页共6页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第3页共6页SiN层AR膜膜厚分布Helios应用范围硅片镀