1GaN基LED发光原理大局部LED是利用MOCVD在衬底材料上异质外延而成,目前比拟成熟的衬底材料是蓝宝石和碳化硅,硅基和ZnO基等其他衬底材料尚未成熟
LED外延片的结构主要包括MIS结、P-N结、双异质结和量子阱几种,当前绝大多数LED均是量子阱结构的
外延片的根本结构如图1-2所示
目前使用的大局部灯具是白炽钨丝灯或者采取气体放电,而半导体发光二极管(LED)的发光原理那么迥然不同
发光二极管自发性(Spontaneous)的发光是由于电子与空穴的复合而产生的
假设发光是在P区中发生的,那么注入的电子与价带空穴直接复合而发光,或者先被发光中心捕获后,再与空穴复合发光
除了这种发光复合外,还有些电子被非发光中心〔这个中心介于导带、介带中间附近〕捕获,而后再与空穴复合,每次释放的能量不大,不能形成可见光
发光的复合量相对于非发光复合量的比例越大,光量子效率越高
由于复合是在少子扩散区内发光的,所以光仅在近PN结面数μm以内产生
理论和实践证明,光的峰值波长λ与发光区域的半导体材料禁带宽度Eg有关,即λ=1240/Eg电子由导带向价带跃迁时以光的形式释放能量,大小为禁带宽度Eg,单位为电子伏特〔eV
由光的量子性可知,hf=Eg[h为普朗克常量,f为频率,据f=c/λ,可得λ=hc/Eg,当λ的单位用um,Eg单位用电子伏特〔eV〕时,上式为λ=1
24um·ev/Eg],假设假设能产生可见光〔波长在380nm紫光~780nm红光〕,半导体材料的Eg应在3
63eV之间发光效率与材料是否为直接带隙(DirectBandgap)有关,图1
1(a)是直接带隙材料
这些材料的导带最低点与价带的最高点在同一K空间
所以电子与空穴可以有效地再复合(Recombination)而发光
1(b)的材料均属于间接带隙(IndirectBandgap),其带隙及导带