头颅MRI—基础知识VIP免费

头颅MRI—基础知识磁共振成像机的基本结构稳定的静磁场稳定的静磁场————磁体磁体产生磁场变化的梯度磁场产生磁场变化的梯度磁场————梯度系统梯度系统存在流动的氢质子存在流动的氢质子————成像基础成像基础发射射频脉冲激发能量的装置发射射频脉冲激发能量的装置————射频系统射频系统接受物体放出能量的装置接受物体放出能量的装置————表面线圈表面线圈检测能量并转化为图象检测能量并转化为图象————计算机系统计算机系统影响磁共振成像信号强度的因素组织特异性因素（内组织特异性因素（内因）因）氢质子密度氢质子密度氢质子运动速度氢质子运动速度T1T1弛豫弛豫T2T2弛豫弛豫操作因素（外因）–外磁场强度与均匀性–射频脉冲序列–序列定时参数–信号叠加次数MRI与CT比较11、无骨性伪影，后颅凹显示好，、无骨性伪影，后颅凹显示好，22、可进行冠、矢及斜位扫描，充分显示病变；、可进行冠、矢及斜位扫描，充分显示病变；33、利用血管流动效应，进行血管成像；、利用血管流动效应，进行血管成像；44、利用血红蛋白变化的规律，了解并判断出、利用血红蛋白变化的规律，了解并判断出血时相；血时相；55、成像因素多，对病变的敏感性增加，有利、成像因素多，对病变的敏感性增加，有利发现微小病变，并在定性诊断中发挥更好的作发现微小病变，并在定性诊断中发挥更好的作用。用。正常轴位图像脑叶定位了解中央沟的位置；了解中央沟的位置；了解大脑外侧裂的位置；了解大脑外侧裂的位置；额叶占大脑半球的额叶占大脑半球的3/53/5；；在大脑半球上层面，额叶占在大脑半球上层面，额叶占2/32/3；；颞叶位于外侧裂之外，颞叶位于外侧裂之外，枕叶位于侧脑室后角附近，枕叶位于侧脑室后角附近，基底节位于脑室前角和三角区之间。基底节位于脑室前角和三角区之间。中央沟大脑外侧裂上层面中央沟位置中央沟额叶顶叶半卵圆中心脑室层面中央沟位置中央沟额叶顶叶放射冠基底节区与枕叶范围尾状核额叶颞叶岛叶丘脑枕叶内囊豆状核外囊外侧裂与颞叶位置大脑外侧裂颞叶后颅凹与枕叶的关系小脑枕叶磁共振成像的读片顺序11、按时间排列图片；、按时间排列图片；22、按序列排列图片；、按序列排列图片；33、先读平扫再读增强；、先读平扫再读增强；44、先读、先读T1WIT1WI，，T2WIT2WI，再读其他序列；，再读其他序列；55、功能图象只是诊断的参考。、功能图象只是诊断的参考。磁共振图像的基本参数成像参数成像参数11、重复时间、重复时间TRTR22、回波时间、回波时间TETE33、反转时间、反转时间TITI44、层面厚度、层面厚度55、层间距、层间距66、重建野、重建野77、矩阵、矩阵88、激励次数、激励次数99、扫描层数、扫描层数1010、扫描时间、扫描时间图像参数–1、MRI编号（MRI号）–2、系统编号（Ex）–3、序列号（Se号）–4、图像号（Im号）–5、姓名、性别、年龄–6、日期、时间–7、窗宽、窗位TR、TE构成T1WI、T2WITR＞1000TE＞50T2WITR＜500TE＜50T1WITR＞1000TE＜50PdWITI构成反转恢复序列层厚与间隔构成分辨率FOV构成图像大小矩阵构成图像清晰度NEX构成清晰度和扫描时间在一定的TR时间内层数与时间无关影响扫描时间的参数有TR、矩阵、激励次数磁共振图像上的标记的意义OAx-轴位OSag-矢位OCor-冠位S-`0`位线上I-`0`位线下R-`0`位线右L-`0`位线左A-`0`位线前P-`0`位线后磁共振图像上的标记的意义常见磁共振成像扫描序列SESE（（FSEFSE））--自旋回波（快速自旋回波）自旋回波（快速自旋回波）T1WIT1WIT2WIT2WIGRE-GRE-梯度回波梯度回波T2*WIT2*WIIR-IR-反转回波（包括反转回波（包括T2FLAIRT2FLAIR和和T1FLAIRT1FLAIR））弥散加权（弥散加权（DWIDWI））脂肪抑制（脂肪抑制（T1T1脂肪抑制、脂肪抑制、T2T2脂肪抑制）脂肪抑制）MT-MT-磁化传递磁化传递TOF-TOF-时空飞跃血管成像时空飞跃血管成像其他扫描序列灌注加权（灌注加权（PWIPWI））弥散张量成像（弥散张量成像（DTIDTI））质子波谱成像（质子波谱成像（MRSMRS））三维容积成像三维容积成像脑功...