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现代材料分析方法习题汇总及答案VIP免费

现代材料分析方法习题汇总及答案_第1页
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材料分析测试方法复习题简答题:1. X 射线产生的基本条件答:①产生自由电子;② 使电子做定向高速运动;③ 在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。2. 连续 X 射线产生实质答:假设管电流为 10mA,则每秒到达阳极靶上的电子数可达(16)个,如此之多的电子到达靶上的时间和条件不会相同,并且绝大多数达到靶上的电子要经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为 hv(i)的光子序列,这样就形成了连续 X 射线。3. 特征 X 射线产生的物理机制答:原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在 K、L、M、N 等不同能级的壳层上,而且按能量最低原理从里到外逐层填充。当外来的高速度的粒子动能足够大时,可以将壳层中某个电子击出去,于是在原来的位置出现空位,原子系统的能量升高,处于激发态 ,这时原子系统就要向低能态转化,即向低能级上的空位跃迁,在跃迁时会有一能量产生,这一能量以光子的形式辐射出来,即特征 X 射线。4. 短波限、吸收限答:短波限:X 射线管不同管电压下的连续谱存在的一个最短波长值。吸收限:把一特定壳层的电子击出所需要的入射光最长波长。5. X 射线相干散射与非相干散射现象答:相干散射:当 X 射线与原子中束缚较紧的内层电子相撞时,电子振动时向四周发射电磁波的散射过程。非相干散射:当 X 射线光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。6. 光电子、荧光 X 射线以及俄歇电子的含义答:光电子:光电效应中由光子激发所产生的电子(或入射光量子与物质原子中电子相互碰撞时被激发的电子)。荧光 X 射线:由 X 射线激发所产生的特征 X 射线。俄歇电子:原子外层电子跃迁填补内层空位后释放能量并产生新的空位,这些能量被包括空位层在内的临近原子或较外层电子吸收,受激发逸出原子的电子叫做俄歇电子。8.晶面及晶面间距答:晶面:在空间点阵中可以作出相互平行且间距相等的一组平面,使所有的节点均位于这组平面上,各平面的节点分布情况完全相同,这样的节点平面成为晶面。晶面间距:两个相邻的平行晶面的垂直距离。9.反射级数与干涉指数答:布拉格方程:2d,Sin0=n 九表示面间距为 d’的(hkl)晶面上产生了 n 级衍射,n 就是反射级数干涉指数:当把布拉格方程写成:〈.0=九时,这是面间距为 1/n 的实际上存在或不存在的假想晶面的一级反射,若把这个晶面叫作干涉面,其间的指数就叫作干涉指数10.衍射矢量与...

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