收稿日期:2006206202基金项目:“十一五”国家科技支撑计划重大项目资助(2006BAK03A02);中国科学院知识创新工程青年基金资助项目(Q05J03Z)作...
现代半导体器件物理与工艺桂林电子科技大学图形曝光与光刻1图形曝光与光刻图形曝光与光刻现代半导体器现代半导体器件物理与工艺件物理与工...
半导体工艺简介物理与光电工程学院张贺秋参考书：《芯片制造－半导体工艺制程实用教程》，电子工业出版社，赵树武等译，2004-10图形化工艺...
•微细加工概述•微细加工中的非光学光刻技术•非光学光刻技术的最新研究进展•非光学光刻技术的未来发展趋势微细加工的定义与分类微细加工...
关于光刻工艺异常分析Zhangjf异常的分类（包括返工分类）对位报警(alignmentalarm)套刻异常(OverlayOOC)聚焦不良（Defocus)显检图形异常(AD...
光刻技术及其应用的现状与展望11引言光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一，一方面在过去的几十年中发挥了重大作用；另...
PHOTO流程?答：上光阻→曝光→顯影→顯影後檢查→CD量測→Overlay量測何为光阻？其功能为何？其分为哪两种？答：Photoresist(光阻).是一种...
光刻工艺流程LithographyProcess摘要：光刻技术（lithographytechnology)是指集成电路制造中利用光学—化学反应原理和化学，物理刻蚀法，将...
