TRACK 工艺简介潘川 2002/1/28摘要本文简要介绍关于涂胶、显影工艺的一些相关内容。引言超大规模 IC 对光刻有五个基本要求，即：高分辨...
第十一章光刻11・1 光刻工艺光刻是一种图象复印的技术，是集成电路制程中一项关键的工艺技术。简单的说，光刻就是用照相复印的方法，将掩...
精品文档---下载后可任意编辑高数值孔径光刻中光的传播与成像讨论的开题报告此开题报告的目的是讨论在高数值孔径光刻中，光的传播和成像的...
精品文档---下载后可任意编辑面对纳米压印光刻设备的精密定位工作台的设计方法与实验的开题报告一、选题背景与讨论意义随着半导体技术、纳...
精品文档---下载后可任意编辑光栅成像扫描光刻技术的开题报告一、讨论背景和意义光刻技术是微电子工业中非常重要的制备技术，其在芯片制造...
精品文档---下载后可任意编辑与 DMD 相匹配的数字光刻光学系统设计讨论的开题报告一、讨论背景与意义数字微镜显示器（DMD）是一种新型的...
精品文档---下载后可任意编辑三光束大面积光刻及表面结构检测的开题报告一、选题背景随着先进制造技术和微电子技术的不断进展，大面积光刻...
精品文档---下载后可任意编辑一种用于双成像光刻中的版图分解算法开题报告题目：一种用于双成像光刻中的版图分解算法一、讨论背景随着处理...
精品文档---下载后可任意编辑一种用于双成像光刻中的版图分解算法中期报告1. 讨论背景在现代半导体制造中，双成像技术已经广泛应用于光刻...
精品文档---下载后可任意编辑KrF 光刻胶显影工艺优化及缺陷讨论的开题报告一、讨论背景随着半导体行业的不断进展，KrF 光刻胶成为制备微...
精品文档---下载后可任意编辑I 型--β 无掩模激光直写光刻系统的开题报告一、选题背景随着集成电路设计和制造技术的进步，集成电路的制造...
第十一章 光刻 11.1 光刻工艺 光刻是一种图象复印的技术，是集成电路制程中一项关键的工艺技术。简单的说，光刻就是用照相复印的方法，...
精品文档---下载后可任意编辑90nm SRAM 光刻技术引入与改进的开题报告开题报告：90nm SRAM 光刻技术引入与改进一、选题背景SRAM（静态...
精品文档---下载后可任意编辑0.18 微米存储器光刻工艺参数的优化讨论的开题报告一、选题的背景和意义：近年来，随着计算机应用领域的不断...
精品文档---下载后可任意编辑0.18um 工艺制程的光刻胶评估的开题报告一、选题背景随着半导体工艺的不断进展和进步，先进工艺制程的应用需...
光刻胶MSDS东进
第 1 页 1 绪论 在微电子制造技术中，最为关键的是用于电路图形生产和复制的光刻技术，光刻技术的研究与开发，在每一代集成电路技术的...
何谓 DUV ？ 答：曝光过程中用到的光，其波长为248nm，其波长较短，因此曝光完成后的图形分辨率较好，用于较为重要的制程中。 I-line与...
光刻工艺过程 一. 总纲 1. 什么是光刻？对光刻总的质量要求是什么？ 光刻就是将掩膜版上的几何图形转移到涂有一层光刻胶的硅片表面的...
光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光...
