第十一章光刻11・1 光刻工艺光刻是一种图象复印的技术，是集成电路制程中一项关键的工艺技术。简单的说，光刻就是用照相复印的方法，将掩膜版上之图形精确地复印到涂在硅片表面的光致抗蚀剂（下面统称光刻胶）上面，然后在光刻胶的保护下对硅片进行离子注入，刻蚀（干，湿法），金属蒸镀等。一个光刻刻蚀的工艺过程见图 11.1。務）负性抗谀剂件）正牲抗怛剂^11.1 錠型光刘工苦晓程使光刻胶感光成图形的可以是可见光，近紫外光（NUV）,深紫外光（DUV）,真空紫外光（VUV）,极短紫外光（EUV）,X 射线等光源，近来又发展了电子束，离子束曝光技术。光学相关波长范围见图 11.2。前最久空无外址前 nmi旳 Soft 以光(O-l-iiJOB|AfFmr\f3flO-J5linm崗 g 戍幷挑—芒（g 耐抚可见光i-ijV-33li™nl同姿堆射X-S0-^kHD能蚪^X<513.run爭鈕肉-Arcf 七G-UncrmArctLhe 咖 nm
