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标签“光刻”的相关文档,共48条
  • 光刻工艺流程

    光刻工艺流程

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    2025-02-06发布132 浏览7 页28 次下载2.26 MB
  • AZ_PR光刻胶的数据资料

    AZ_PR光刻胶的数据资料

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    2025-01-27发布103 浏览29 页28 次下载7.9 MB
  • 第九章_基本光刻工艺流程显影到最终检验

    第九章_基本光刻工艺流程显影到最终检验

    第九章 基本光刻工艺流程-曝光到最终检验 概述 在本章,将解释从光刻胶的显影到最终检验所使用的基本方法。本章末尾将涉及膜版工艺的使...

    2025-01-25发布129 浏览29 页26 次下载1.21 MB
  • 光刻工艺介绍

    光刻工艺介绍

    光刻工艺介绍一、定义与简介光刻是所有四个基本工艺中最关键的,也就是被称为大家熟知的photo,lithography,photomasking, masking, 或...

    2025-01-22发布146 浏览9 页4 次下载1.27 MB
  • 光刻胶前期初步调研

    光刻胶前期初步调研VIP

    目录目录 1一、什么是光刻胶 3二、光刻胶的分类 3三、光刻胶的基本组成和技术参数 3四、光刻胶的发展及应用 6五、国内光刻胶的现状和...

    2024-12-12发布139 浏览20 页13 次下载278.63 KB
  • 紫外正型光刻胶及配套试剂

    紫外正型光刻胶及配套试剂VIP

    紫外正型光刻胶及配套试剂 一.紫外正型光刻胶开发及应用 微细加工技术实际上就是实现图形转移整个过程中的处理技术,也就是将掩膜母版上...

    2024-12-11发布83 浏览7 页14 次下载569.02 KB
  • 声表面波器件工艺原理3光刻工艺原理

    声表面波器件工艺原理3光刻工艺原理VIP

    声 表 面 波 工 艺 原 理 第 三 章 光 刻 工 艺 原 理 Page 1 of 20 三 , 声 表 器 件 光 刻 工 艺 原 ...

    2024-12-07发布72 浏览20 页19 次下载1.31 MB
  • 2024年全球光刻胶行业现状与竞争格局分析

    2024年全球光刻胶行业现状与竞争格局分析VIP

    下载后可任意编辑2024 年全球光刻胶行业现状与竞争格局分析一、光刻胶行业进展概述起源于美国,柯达 KTFR 光刻胶为光刻胶工业的开创者,...

    2024-12-01发布66 浏览4 页4 次下载14.5 KB
  • 193nm光刻曝光系统的现状及发展

    193nm光刻曝光系统的现状及发展VIP

    193nm光刻曝光系统的现状及发展

    2024-11-29发布158 浏览11 页25 次下载3.97 MB
  • 光刻工艺的对准方法与流程

    光刻工艺的对准方法与流程VIP

    光刻工艺的对准方法与流程 本 发 明 涉 及 光 刻 工 艺 技 术 领 域 , 尤 其 涉 及 一 种 光 刻 工 艺 的 对 ...

    2024-11-24发布103 浏览18 页10 次下载1.01 MB
  • 光刻工艺流程

    光刻工艺流程VIP

    学习文档 仅供参考 光刻工艺流程 Lithography Process 摘要:光刻技术〔lithography technology)是指集成电路制造中利用光学—化学反...

    2024-11-24发布160 浏览9 页15 次下载1.09 MB
  • 光刻工艺基础知识

    光刻工艺基础知识VIP

    光刻工艺基础知识PHOTO 光刻工艺基础知识PHOTO (注:引用资料) 光刻工艺基础知识 PHOTO PHOTO 流程? 答:上光阻→曝光→显影→显...

    2024-11-24发布170 浏览14 页4 次下载1.13 MB
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    2024-11-24发布120 浏览9 页22 次下载1.51 MB
  • 光刻技术以及其应用的现状与展望

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    1光刻技术及其应用的现状与展望21引言光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一,一方面在过去的几十年中发挥了重大作用;...

    2024-11-20发布138 浏览10 页14 次下载160.89 KB
  • 光刻胶、低介电常数材料、抗反射膜材料

    光刻胶、低介电常数材料、抗反射膜材料VIP

    集成电路前端材料项目—光刻胶、低介电常数材料、抗反射膜材料目录I.化学放大光刻胶II.低介电常数材料III.抗反射涂层材料化学放大光刻胶半...

    2024-11-19发布58 浏览29 页23 次下载2 MB
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    为提高成品率改善光刻工艺的一些方法作者:伍强詹思诚华虹NEC电子有限公司引言当最小线宽(CriticalDimension,CD)和对准精度的变化大到一定...

    2024-11-18发布178 浏览11 页11 次下载692.63 KB
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  • 光刻与刻蚀工艺教学课件

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    2024-11-14发布115 浏览32 页20 次下载6.8 MB
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