1 / 5 液态磷扩散工艺以及设备基本操作一．准备工作A. 打开总电源，听到报警声后按下主面板上‘消警 ’，信号灯 A/B/C亮。B. 打开循环水（北边水龙头开关，不用太大，适当即可）C. 检查湿氧瓶中水位是否达到刻度以上（瓶上双面胶标志，一般水位需在双面胶上方），湿氧前十分钟左右需要插电源加热。如图：D. 预扩散实验前，需打开半导体源瓶冷阱开关（位于设备左侧靠后下方），设置所需温度（根据扩散要求一般为0 度10 度）。如图：2 / 5 E．打开气源根据标识打开气气瓶总开关调节氧气瓶减压阀和氮气减压阀压力至0.3Mpa左右，微调设备减压阀（在设备后端气路控制柜正上方），使氧气和氮气压力均为 0.2MPa左右，上管氮气（气路控制柜内第三路）以及下管保护氮（气路控制柜内第七路）均使用浮子流量计，需手动调节。F．拧开磷源源瓶上方手动开关（先开出气口，再开进气口）使气路流畅（开关方向见开关上边标志），二、 预扩散A．开启设备前面板 “净化”开关。B．打开面板上所用炉管的电源开关（向右旋即为开），实验顺序一般先是预扩散（使用炉管2，下管），后是再分布（使用炉管1，上管）。C．开启工控机（计算机），开关位置在前面板右下角锁住的小窗口内的黑色键。D. 计算机开启后点击桌面上的“双管磷扩散炉计算机管理系统”快捷图标，进入系统监控软件。3 / 5 E. 点击工具栏的第二个图标“开始监控 ”，计算机开始监控系统的运行情况。F．监控画面中最下方有“状态监控 ”、“实时曲线 ”、“参数设置 ”三个选项卡，可以进行画面的切换。点“参数设置 ”进行工艺的编辑。4 / 5 G．在“自动工艺参数 ”内可以打开一个已经存在的工艺或者新建一个工艺，工艺编辑完毕后点“写入 PLC”后提示下载成功。此时可以点“从PLC读出”看看读出的工艺是否为自己编辑过的。H. 输入工艺参数编号时间温度氮气小氮氧气1 3秒30 0 0 0 2 1时40分1050 0 0 0 3 20分1050 1 0.15 0.35 4 30分1050 1 0.15 0.35 5 10分1050 1 0 0 6 1小时1050 0 0 0 I.如果读出的工艺没错就可以将画面切换到“状态监控 ”，右旋 “运行/复位 ”开关进入工艺自动运行阶段。J. 准备硅片：有机、无机溶剂清洗，冷热去离子水冲洗，PH试纸显示中性 , 根据硅片尺寸选取石英舟, 并在编号 2结束前 10分钟装入硅片。K. 进行试片方块电阻测试，调整工艺参数。L. 将清洗好烘干的正式扩散硅片放入石英舟上，在舟上前后...
