海德能反渗透膜清洗工艺流程 1 反渗透膜元件的污染与清洗 在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)、微生物 (藻类、霉菌、真菌)等污染。 污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的，如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是在长期停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。 当反渗透系统(或装置)出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗： 在正常给水压力下，产水量较正常值下降 10～15%; 为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加 10～15%; 产水水质降低 10～15%，透盐率增加10～15%; 给水压力增加 10～15%;系统各段之间压差明显增加。 保持稳定的运行参数主要是指产水流量、产水背压、回收率、温度及 TDS。如果这些运行参数起伏不定，建议检查是否有污 染 发生，或者在关键运行参数有变化的前提下反渗透的实际运行是否正常。 定时监测系统整体性能是确认膜元件是否已发生污 染 的基本方法。污 染 对膜元件的影响是渐进的，并且影响的程度取决于污 染 的性质。表 1“反渗透膜污 染 特征及处理方法”列出了常见的污 染 现象和相应处理方法。 已受污 染 的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每 3-12个月一次。 当膜元件仅仅是发生了轻度污 染 时，重要的是清洗膜元件。重度污 染 会因阻碍化学药剂深入渗透至污染 层，影响清洗效果。 清洗何种污 染 物以及如何清洗要根据现场污 染 情况而进行。对于几种污 染 同时存在的复杂情况，清洗方法是采用低 PH和高 PH的清洗液交替清洗(应先低PH后高 PH值清洗)。 2 污 染 情况分 析 碳酸钙垢： 碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分 散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水 pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的。早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的 pH值至 3~5，运行1~2小时的方法去除。对于沉积时间长的碳酸钙垢，可用低 pH值的柠檬酸溶液清洗去除。 硫酸钙、硫酸钡、硫酸...
