1. 晶圆制造厂非常昂贵的原因之一，是需要一个无尘室，为何需要无尘室 答：由于微小的粒子就能引起电子组件与电路的缺陷 2. 何谓半导体? 答：半导体材料的电传特性介于良导体如金属(铜、铝，以及钨等)和绝缘和橡胶、塑料与干木头之间。最常用的半导体材料是硅及锗。半导体最重要的性质之一就是能够藉由一种叫做掺杂的步骤刻意加入某种杂质并应用电场来控制其之导电性。 3. 常用的半导体材料为何？ 答：硅(Si)、锗(Ge)和砷化镓(AsGa) 4. 何谓VLSI？ 答：VLSI(Very Large Scale Integration)超大规模集成电路 5. 在半导体工业中，作为绝缘层材料通常称什么？ 答：介电质(Dielectric). 6. 薄膜区机台主要的功能为何？ 答：沉积介电质层及金属层 7. 何谓CVD(Chemical Vapor Dep.) 答：CVD 是一种利用气态的化学源材料在晶圆表面产生化学沉积的制程 8. CVD 分那几种? 答：PE-CVD(电浆增强型)及 Thermal-CVD(热耦式) 9. 为什么要用铝铜(Al-Cu)合金作导线? 答：良好的导体仅次于铜 10. 介电材料的作用为何? 答：做为金属层之间的隔离 11. 何谓PMD(Pre-Metal Dielectric) 答：称为金属沉积前的介电质层，其界于多晶硅与第一个金属层的介电质 12. 何谓IMD(Inter-Metal Dielectric) 答：金属层间介电质层。 13. 何谓USG? 答：未掺杂的硅玻璃(Undoped Silicate Glass) 14. 何谓FSG? 答：掺杂氟的硅玻璃(Fluorinated Silicate Glass) 15. 何谓BPSG? 答：掺杂硼磷的硅玻璃(Boro phospho silicate glass) 16. 何谓TEOS? 答：Tetra-ethoxy-silane 四乙氧基硅烷, 正硅酸四乙酯, 用途为沉积二氧化硅 17. TEOS 在常温时是以何种形态存在? 答：液体 18. 二氧化硅其 K 值为3.9 表示何义 答：表示二氧化硅的介电质常数为真空的3.9 倍 19. 氟在 CVD 的工艺上，有何应用 答：作为清洁反应室(Chamber)用之化学气体 20. 简述 Endpoint detector 之作用原理 答：clean 制程时,利用生成物或反应物浓度的变化,因其特定波长光线被 detector 侦测到强度变强或变弱,当超过某一设定强度时,即定义制程结束而该点为endpoint. 21. 机台使用的管件材料主要有那些? 答：有不锈钢制(Stainless Steal),黄铜制(Brass),塑胶制(PVC),特氟隆制(Teflon)四种. 22. 机器维修时要放置停机维修告示牌目的为何? 答：告知所有的人勿操作机台，避免危险 23. 机台维修至少两人配合，有何目的? ...
