第6 章 p-n 结 1、一个 Ge 突变结的 p区 n区掺杂浓度分别为 NA=1017cm-3 和 ND=51015cm-3,求该 pn结室温下的自建电势
解:pn结的自建电势 2(ln)DADiN NkTVqn 已知室温下,0
026kT eV,Ge 的本征载流子密度1332
4 10 cmin 代入后算得:15171325 10100
026 ln0
4 10 )DVV 4
证明反向饱和电流公式(6-35)可改写为 20211()(1)isnnppbk TJbqLL 式中npb,n 和p 分别为 n型和 p型半导体电导率,i 为本征半导体电导率
证明:将爱因斯坦关系式ppkTDq 和nnkTDq 代入式(6-35)得 0000()pnpnSpnnpnpnppnnpJkTnkTpkTLLLL 因为002ippnnp,002innnpn,上式可进一步改写为 00221111()()SnpinpinpppnnnppnJkTnqkTnLpLnLL 又因为 ()iinpn q 22222222()(1)iinpipn qn qb 即 22222222()(1)iiinppnqqb 将此结果代入原式即得证 2222221111()()(1)(1)npiiSpnppnnppnqkTbkTJqbLLqbLL 注:严格说,迁移率与杂质浓度有关,因而同种载流子的迁移率在掺杂浓度不同的p 区和n区中并不完全相同,因而所证关系只能说是一种近似
一硅突变pn 结的n 区n=5cm,p=1s;p 区p=0
1cm,n=5s,计算室温下空穴电流与电子电流之比、饱和电流