宝石级人造钻石（大颗粒单晶金刚石）的设备介绍----MPCVD 新型的方法 介绍CVD 金刚石设备， 主要为微波CVD 设备，是被公认的能够制备高品级的大颗粒金刚石和大面积金刚石厚膜。有需要CVD 设备，主要提供 1 kW 5 kW 8 kW 微波等离子体 CVD 设备，也欢迎咨询！ 目前化学气相沉积（CVD）法制备金刚石主要有：热丝 CVD，直流电弧 CVD，微波等离子体 CVD。这些方法在本质上都是用某种形式的能量来激励和分解含碳化合物气体分子,并在一定条件下使金刚石在基片表面成核和生长。 用于刀具涂层的热丝设备 能够工业化得直流设备 能够制备高品级钻石的微波设备 热丝 CVD 直流CVD 微波CVD 各自的内部结构图，可以发现三者就是激发等离子体的方式不一样，有各自的优缺点 做出来的金刚石的质量也是不一样的哦，看对比就知道了 热丝主要用于刀具涂层上 直流法生长不够稳定 微波法最好，但是耗资较大 三者对比可是看的出来的哦，三种方法做出来的东西就是不一样的 因此，只有微波法能做出高品级金刚石！ 直接看看微波CVD 金刚石的应用就知道好了：光学级金刚石能够应用到各个领域 更重要的是，可以做钻石的！ apollo 公司生产0.28-0.67 克拉的粉红CVD 钻石，目前无色钻石最大可达16 克拉 微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)是制备高品质金刚石膜的首选方法。主要优点为：无内部电极,可避免电极放电污染;运行气压范围宽; 能量转换效率高;可以产生大范围的高密度等离子体;微波和等离子体参数均可方便地控制等. 所以,它是制备大面积均匀、无杂质污染的高质量金刚石膜的有开发前景的重要方法. MPCVD 装置通常分为微波系统、等离子体反应室、真空系统和供气系统等四大部分. 微波系统包括微波功率源、环行器、水负载、阻抗调配器,有时还包括测量微波入射和反射功率的定向耦合器及功率探头和显示仪表. 微波频率通常选用工业用加热频段的2. 45GHz. 真空和统由真空泵、真空阀门和真空测量仪器(包括真空规管和显示仪器) 组成. 供气系统由气源、管道和控制气体流量的阀和流量计等组成. 这三个部分各自都 是通用型 的,可以适 用于 各种 类 型 的MPCVD 装置和其 他 用途 的实 验 装置. 等离子体反应室包括微波与 等离子体的耦合器、真空沉积室以及基 片 台 等. 不 同 类 型 的PCVD 装置的区 别 在 于 等离子体反应室形 式 的不 同 . 从 真空沉积室的形 式 来 分,有石英 管式 、石...
