半导体FAB里基本的常识简介

CVD晶圆制造厂非常昂贵的原因之一，是需要一个无尘室，为何需要无尘室答：由于微小的粒子就能引起电子组件与电路的缺陷何谓半导体？答：半导体材料的电传特性介于良导体如金属(铜、铝，以及钨等)和绝缘和橡胶、塑料与干木头之间。最常用的半导体材料是硅及锗。半导体最重要的性质之一就是能够藉由一种叫做掺杂的步骤刻意加入某种杂质并应用电场来控制其之导电性。常用的半导体材料为何答：硅(Si)、锗(Ge)和砷化家(AsGa)何谓 VLSI答：VLSI(VeryLargeScaleIntegration)超大规模集成电路在半导体工业中，作为绝缘层材料通常称什幺答：介电质(Dielectric)薄膜区机台主要的功能为何答：沉积介电质层及金属层何谓 CVD(ChemicalVaporDep.)答：CVD 是一种利用气态的化学源材料在晶圆表面产生化学沉积的制程CVD 分那几种？答:PE-CVD(电浆增强型)及 Thermal-CVD(热耦式)为什幺要用铝铜(AICu)合金作导线？答：良好的导体仅次于铜介电材料的作用为何？答：做为金属层之间的隔离何谓 PMD(Pre-MetalDielectric)答：称为金属沉积前的介电质层，其界于多晶硅与第一个金属层的介电质何谓 IMD(Inter-MetalDielectric)答：金属层间介电质层。何谓 USG?答：未掺杂的硅玻璃(UndopedSilicateGlass)何谓 FSG?答：掺杂氟的硅玻璃(FluorinatedSilicateGlass)何谓 BPSG?答：掺杂硼磷的硅玻璃(Borophosphosilicateglass)何谓 TEOS?答：Tetraethoxysilane 用途为沉积二氧化硅TEOS 在常温时是以何种形态存在？答:液体二氧化硅其 K 值为 3.9 表示何义答：表示二氧化硅的介电质常数为真空的 3.9 倍氟在 CVD 的工艺上，有何应用答：作为清洁反应室(Chamber)用之化学气体简述 Endpointdetector 之作用原理.答:clean 制程时，利用生成物或反应物浓度的变化，因其特定波长光线被 detector 侦测到强度变强或变弱，当超过某一设定强度时，即定义制程结束而该点为 endpoint.机台使用的管件材料主要有那些？答：有不锈钢制(StainlessSteal),黄铜制(Brass)，塑胶制(PVC),特氟隆制(Teflon)四种.机器维修时要放置停机维修告示牌目的为何？答：告知所有的人勿操作机台，避免危险机台维修至少两人配合，有何目的？答：帮忙拆卸重物，并随时警戒可能的意外发生更换过任何气体管路上的零件之后，一定要做何动作？答：用氦气测漏机来做测漏维修尚未降至室温之反应室(Chamber),应配带何种手套答：石棉材质之防热手套并宜在 80 摄式度下始可动作何为真空(Vacuum)?半导体...