第二章1一个硅p-n扩散结在p型一侧为线性缓变结,a=1019cm-4,n型一侧为均匀掺杂,杂质浓度为3×1014cm-3,在零偏压下p型一侧的耗尽层宽度为0
8μm,求零偏压下的总耗尽层宽度、建电势和最大电场强度
解:)0(,22xxqaxdxdpS)0(,22nSDxxqNdxd0),(2)(22xxxxqadxdxppSnnSDxxxxqNdxdx0),()(x=0处E连续得xn=1
07μmx总=xn+xp=1
87μmnpxxbiVdxxEdxxEV00516
0)()(mVxqaEpS/1082
4)(252max,负号表示方向为n型一侧指向p型一侧
2一个理想的p-n结,ND=1018cm-3,NA=1016cm-3,τp=τn=10-6s,器件的面积为1
2×10-5cm-2,计算300K下饱和电流的理论值,±0
7V时的正向和反向电流
解:Dp=9cm2/s,Dn=6cm2/scmDLppp3103,cmDLnnn31045
2npnpnpSLnqDLpqDJ00IS=A*JS=1
0*10-16A
7V时,I=49
3μA,-0
7V时,I=1
0*10-16A3对于理想的硅p+-n突变结,ND=1016cm-3,在1V正向偏压下,求n型中性区存贮的少数载流子总量
设n型中性区的长度为1μm,空穴扩散长度为5μm
解:P+>>n,正向注入:0)(20202pnnnnLppdxppd,得:)sinh()sinh()1(/00pnnpnkTqVnnnLxWLxWepppnnWxnnAdxppqAQ20010289
5)(4一个硅p+-n单边突变结,ND=1015cm-3,求击穿时的耗尽层宽度,若n区减小到5μm,计算此时击穿电压
解:mVNEBgc/1025
1E)q(101
14814321S7(VqNEVBCSB35022mqNVxBBSm