第1页共8页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第1页共8页內層課製程介紹壹、目的貳、流程簡介參、內層概述肆、流程概述內層製程介紹壹、目的:1
內層(Innerlayer)製程原理說明內層最主要的目的在於製作多層電路板之內層線路部份隨著科技成就的發達,相對多層電路板的要求也隨之升高層數的增多
密集的細線路將成為內層製程的主流
貳、流程簡介:前處理感光阻劑附著曝光顯影蝕刻去墨檢修1
前處理前處理的主要目的是去氧化及粗化板面以增加板面與油墨間之附著力
包含:酸洗SPS微蝕化學式前處理硫酸雙氧水硬刷不織布陶瓷刷輪尼龍刷軟刷尼龍軟刷浮石粉物理性處理金鋼砂無刷輪噴砂浮石粉第2页共8页第1页共8页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第2页共8页金鋼砂2
感光阻劑附著此段主要功用是將感光阻劑均勻附著於板面上
包含:乾膜製程濕墨印刷網印手動(半自動)印刷自動網印垂直式網版印刷rollercoatercurtaincoaterspraycoater3
曝光利用特定波長之紫外光(UV)照射該感光阻劑,使感光部份形成架橋,而感光過程中即以感光起始劑受UV照射後分裂成高活性之"自由基",形成"交聯"反應產生鍵結,未感光部分並隨之顯影液而清洗去除
其型式分為手動曝光機平行光非平行光自動曝光機平行光非平行光4
顯影顯影是將未經曝光的區域洗去保留已曝光部分,其原理是未曝光的感光阻劑與顯影液中之碳酸鈉,形成鈉鹽而遭到溶解,使感光部分得以保留,以達到顯像的目的
蝕刻以蝕刻液(CuCL2,HCL,氧化劑)來咬蝕未被乾膜覆蓋之銅,使不須要之銅層被除去,僅留下必須的線路圖案
其型式分為:蝕刻酸性蝕刻鹼性蝕刻6
去墨以3%之NaOH將留在線上之油墨完全去除,內層板即成形
檢修內層板的好壞與否主要決定於成品之兩面對準度是否精確和底片影像之轉移是否失真