EDI设备的化学清洗及再生膜块堵塞的原因主要有下面几种式:o颗粒/胶体污堵o无机物污堵o有机物污堵o微生物污堵清洗方法时间(分)备注酸洗30-50碱洗30-50盐水清洗35-60消毒25-40冲洗$50再生$120根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量型号药液配用量(升)备注MX-50501
酸洗温度15-25°C2
碱洗温度25-30C3
配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水MX-10080MX-200110MX-300150•对于膜块数量大于1块时,按表中配液的数量乘以膜块数量EDI膜块的再生o确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在
o使系统构建成一个闭路自循环管路
o按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力
o给EDI送电,调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流(最大不能超过4A)
o直至产水电阻率达工艺要求到或者$12MQ
cmo提示:膜块的再生是一个比较长的时间,有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间
EDI运行维护注意事项注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册
本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册
一、进流水质要求与必要之附属设备(一)进流水质要求:前处理系统一定要有RO系统,且要确保RO系统操作正常
进流水质最低要求如下:1导电度(包括SiO2及CO2)ps/cm