薄膜体内缺陷对损伤概率的影响夏志林1)2)�邵建达1)范正修1)1)(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)2)(中国科学院研究生院,北京100080)(2005年11月30日收到;2006年6月19日收到修改稿)由实验中得到的激光损伤概率与表面杂质密度的关系出发,结合XRD测试和激光损伤测试的结果,得到体缺陷或杂质破坏起主导作用的损伤机理
将激光作用时杂质吸收的热学和力学过程与杂质分布的统计规律结合起来,得到了深埋于薄膜内部的杂质诱导薄膜损伤概率与杂质密度、激光功率密度以及薄膜厚度的关系
该模型认为能诱导薄膜破坏的杂质尺寸范围与杂质填埋深度有关,所以不同深度处能诱导薄膜损伤的杂质密度不一样,理论结果与实验结果符合得很好
该理论模型还可以很好地解释损伤形貌
关键词:损伤,激光,缺陷,薄膜PACC:6180,7850,4630N,6890�E2mail:lione1626@163
com11引言纳秒激光作用于薄膜材料时,损伤机理以杂质或缺陷吸收为主[1—11]
由于杂质密度是有限的,所以破坏的统计概率性是纳秒激光损伤的主要特点
有关杂质密度与激光损伤概率的关系,先前有一些研究[1—4]
但是这些研究没有将杂质半径的信息融合进去,这使得理论模型不很完善
我们曾经对此做了一些补充工作,研究了结构非常完善或厚度很小的薄膜,其破坏源自表面杂质时,杂质密度与损伤概率的关系[5]
文献[5]定义薄膜中总的杂质密度为N=∑mi=1Ni,m是可以诱导薄膜破坏的杂质(称之为有害杂质)的种类数
激光束光斑内的有害表面杂质数目为Ni=∫w01i02πrlMi1-Di(r1-Dmaxi-r1-Dci)dr=M3t·W1-Dim+H3i·W(Di-1)Π2m,M3i=πlw201iMi(1-Di)23tpελi4cviΔTi1-Di×1-expDi-1w20w201i,H3i=2·πlw