“浙江师范大学---LED 芯片研发中心”超净室设备采购清单序号项目名称设备、材质及工程技术要求性能要求主要技术指标1气体供应 及防护系统一、总体功能描述:气体供应及防护系统是为 PECVD 和 TCP 设备安全供应气体,保证 PECVD 和 TCP 设备的正常使用,对工艺尾气作处理,并实现远程监控与报警
二、需供气体及要求1
TCP 刻蚀设备需供气体及要求a
Cl2:气压:1 kg/cm2,最大流量:100 sccm,纯度:4N管径:1/4" VCR Male,管材:SUS316b
BCl3:气压:1 kg/cm2,最大流量:100 sccm,純度:4N管径:1/4" VCR Male,管材:SUS316c
He:气压:1 kg/cm2,最大流量:30 sccm,純度:4NCHF3:气压:1 kg/cm2,最大流量:500 sccm,純度:4N管徑:1/4" VCR Male,管材:SUS316d
Ar,N2,O2:气压:1 kg/cm2,最大流量:200 sccm,純度:4N管径:1/4" VCR Male,管材:SUS3162
PECVD 设备需供气体及要求a
SiH4气压:1 kg/cm2,最大流量 500 sccm,管徑:1/4"VCR Male,管材:SUS316,純度 5%SiH4,95%N2b
N2O气压:1 kg/cm2,最大流量 500 sccm管徑:1/4" VCR Male,管材:SUS316,純度 4Nc
CF4/O2气压:1 kg/cm2,最大流量 500 sccm,管徑:1/4"VCR Male,管材:SUS316,純度 CF4 80%,O2 20%d
NH3气压:1 kg/cm2,最大流量 200 sccm管徑:1/4" VCR Male,管材:SUS316,純度 4N防漏、防爆、自动保护处理1
自动检测气体是否泄漏;2