薄膜材料制备技术薄膜材料制备技术ThinFilmMaterialsThinFilmMaterials薄膜材料制备技术薄膜材料制备技术ThinFilmMaterialsThinFilmMaterials北京科技大学材料科学学院唐伟忠Tel:62334144E-mail:wztang@mater
cn课件下载网址:wztang_teaching@sina
com下载密码:123456第五讲第五讲薄膜材料制备的薄膜材料制备的CVDCVD方法方法PreparationofthinfilmsbyPreparationofthinfilmsbyCVDmethodsCVDmethods提要提要CVDCVD过程中典型的化学过程中典型的化学反应反应CVDCVD过程的热力学过程的热力学CVDCVD过程的动力学过程的动力学CVDCVD过程的数值模拟技术过程的数值模拟技术CVDCVD薄膜沉积装置薄膜沉积装置化学气相沉积(chemicalvapordeposition,CVD)是经由气态的先驱物,通过气相原子、分子间的化学反应,生成薄膜的技术手段化学气相沉积化学气相沉积化学气相沉积的气压环境化学气相沉积的气压环境与PVD时不同,CVD过程的气压一般比较高(随需求不同而不同),因为较高的气压有助于提高薄膜的沉积速率
此时气体的流动状态多处于粘滞流状态气体分子的运动路径不再是直线气体分子在衬底上的沉积几率不再是接近100%,而是取决于气压、温度、气体组成、气体激发状态、薄膜表面状态等多个因素这也决定了CVD薄膜可被均匀地涂覆在复杂零件的表面,而较少受到PVD时阴影效应的影响化学气相沉积的温度范围化学气相沉积的温度范围与PVD时不同,CVD过程的温度一般也比较高(随需求不同而不同),因为较高的温度有助于提高薄膜的沉积速率
此时高温可提供化学反应所需要的激活能化学反应