CHI电化学工作站使用指南 在桌面单击鼠标选择chi660B 电化学工作站, 弹出如图2 的测试软件主界面, 图2 CHI 电化学工作站主界面 图3 打开测试软件的主界面之后,按照图3 单击鼠标,会弹出如下图4 的对话框, 图4 对话框显示各种电化学测试方法, Cy clic V oltammetry ----循环伏安测试 Linear Sweep Voltammetry----线性扫描伏安法 Staircase Voltammetry----阶梯伏安法 Tafel Plot----塔菲尔极化曲线法 Amperometric i-t Curve----电流时间曲线 A
Impedance----交流阻抗测试 Impedance-Time----阻抗时间曲线 Impedance-Potential----交流伏安法 Open Circuit Potential-Time----开路电位时间曲线 以上几种测试方法是实验室最常用的几种,且由于本人知识有限,其它测试方法有望他人补充
现主要介绍如何进行测试,然后介绍几种常用测试方法的测试参数的设计
例如:自腐蚀电位的测试----- Open Circuit Potential-Time ,鼠标单击对话框中的Open Circuit Potential-Time 选项,如下图 5,然后点击 OK 即可, 图 5 上述操作完成后会自动跳出如下图 6 的设计参数的对话框,其中 Run Time(sec)---表示测试时间,即我们常说的自腐蚀电位稳定时间,一般选择稳定 10min 左右
有时也可以输入更长的时间,一般当电位变化在2mV/min 时即认为电位已稳定,这时可以停止测量
Sample Interval----表示采集数据的间隔,High E Limit(V)-----表示电极电位所在的最高范围,Low E Limit(V)