表15・1典型无机化合物的紧张基团频率G/cm-1)之相礼LM热创作化合物基团X-H伸缩振动区叁键区双键伸缩振动区部分单键振动和指纹区烷烃-CH3asCH:2962±10(s)asCH:1450±10(m)sCH:2872±10(s)sCH:1375±5(s)-CH2-asCH:2926±10(s)®CH:1465±20(m)sCH:2853±10(s)CH:2890±10(s)5CH:〜1340(w)烯烃FCH:3040〜3010(m)PC=C:1695〜^1540(m)SCH:1310〜1295(m)YCH:770〜665(s)HFCH:3040〜3010(m)*C=C:1695〜^1540(w)丫CH:970〜960(s)炔烃-C三C-HVCH:-3300(m)PC三C:2270〜2100(w)芳烃VCH:3100〜3000(变)泛频:2000〜1667(w)SCH:1250〜1000(w)OTC=C:1650〜^1430(m)丫CH:910〜6652〜4个峰单取代:770〜730(vs)-700(s)邻双取代:770〜735(vs)间双取代:810〜750(vs)725〜680(m)900〜860(m)〜对双取代:860〜790(vs)醇类R-OHOH:3700〜3200(变)OH:1410〜1260(w)CO:1250〜1000(S)OH:750〜650(s)酚类Ar-OHOH:3705〜3125(s)脂肪醚R-O-R'酮醛CH:边820广2720(w)双峰羧酸OH:3400〜2500(m)C=C:1650〜1430(m)C=O:~1715(vs)C=O:~1725(vs)OH:1390〜1315(m)CO:1335〜1165(s)CO:1230〜1010(S)C=O:1740〜1690(m)酸酐C=O:1850〜1880(S)OH:1450〜1410(