一:1、单晶硅晶胞常数为0
543nm,计算(100),(110),(111)晶面的面间距和原子密度(110)面:面间距:0
543nm;面密度:6
783nm-2(110)面:面间距:0
768nm;面密度:4
748nm-2(111)面:面间距:0941nm;面密度:7
801nm-22、举例说明晶体缺陷主要类型缺陷分为:点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷点缺陷:肖特基缺陷和弗仑克尔缺陷,反结构缺陷线缺陷:位错,分为刃行位错、螺旋位错面缺陷:层错,常见的有外延层错、热氧化层错体缺陷:有空洞、夹杂物、沉淀等3、画出PN结能带图及载流子分布PN结能带图:载流子分布:4、简述光生伏特效应1)用能量等于或大于禁带宽度的光子照射p-n结;2)p、n区都产生电子—空穴对,产生非平衡载流子;3)非平衡载流子破坏原来的热平衡;4)非平衡载流子在内建电场作用下,n区空穴向p区扩散,p区电子向n区扩散;5)若p-n结开路,在结的两边积累电子—空穴对,产生开路电压
5、简述硅太阳能电池工作原理太阳能电池发电的原理主要是半导体的光电效应,硅太阳能电池的基本材料为P型单晶硅,上表面为N+型区,构成一个PN+结
顶区表面有栅状金属电极,硅片背面为金属底电极
上下电极分别与N+区和P区形成欧姆接触,整个上表面还均匀覆盖着减反射膜
当入发射光照在电池表面时,光子穿过减反射膜进入硅中,能量大于硅禁带宽度的光子在N+区,PN+结空间电荷区和P区中激发出光生电子——空穴对
各区中的光生载流子如果在复合前能越过耗尽区,就对发光电压作出贡献
光生电子留于N+区,光生空穴留于P区,在PN+结的两侧形成正负电荷的积累,产生光生电压,此为光生伏打效应
当光伏电池两端接一负载后,光电池就从P区经负载流至N+区,负载中就有功率输出
6、如何从石英砂制取硅
简要框图说明从石英到单晶硅的工艺加料—→熔化—→缩颈生长—→放肩生长—