纳米多孔金薄膜及其微电极结构的制备曾志刚,周海军,龙啸,郭二娟(上海大学理学院,上海200444)摘要:本文结合光刻和溅射等MEMS工艺和去合金法制备纳米多孔金膜基叉指型微电极阵列
该方法首先利用光刻技术制备了叉指微电极结构,再通过磁控溅射方法获得了金银合金薄膜,最后通过去合金方法进行浓硝酸自腐蚀处理,制备纳米多孔金薄膜
同时,本文系统比较了腐蚀时间对纳米多孔金薄膜形貌和组分的影响
利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜(TEM)表征了纳米多孔金薄膜微电极的形貌
结果表明合金化时间对样品的纳米结构形成与演化有明显的影响
随着腐蚀时间增加,纳米多孔金薄膜孔隙度增加,金韧带分布更加均匀,逐渐形成均匀的具有高表面积的开放式多孔结构
X射线衍射(XRD)对样品的结构进行了表征与分析,结果表明纳米多孔金呈现明显的(111)晶面
关键词:去合金法;纳米多孔金;微电极;MEMS;微能源Abstract:NanoporousgoldfilmbasedinterdigitatedmicroelectrodearrayscanbeformedbycombiningMEMStechnology(lithography、sputteringandsoon)anddealloying
Firstlyinterdigitalmicroelectrodestructurewasfabricatedbyphotolithography
Then,thegoldandsilveralloythinfilmswerepreparedbymagnetronsputteringmethod
Finally,nanoporousgoldfilmwasobtainedbyusingconcentratednitricacidcorrosiontreatment
Meanwhile,wesystemat