may a mental ray 烘焙AO 贴图 may a mental ray bake AO map AO 贴图在游戏美术制作中非常重要，常用的方法分 1
低模烘焙高模的细节,但是需要准备高低精度的模型
max 的方法是 投射贴图Projection map Projection map may a 的方法是 Target map Target map 2
直接烘焙（bake）场景中模型自身的light map,这种方法操作相对简单点，但是效果与模型的精度成正比，模型越精细，贴图效果越好
只需对渲染稍作设置，打上灯光，分好UV 即可
max 的是选择bake 的贴图类型为light map light map 或在mental ray 渲染器下 bake Ambient Occlu sion 贴图 bake Ambient Occlu sion may a 则是批量烘焙 batch bake mental ray batch bake (mental ray ) 下面就介绍一下may a 烘焙AO 贴图may a bake AO map 的方法，其他几种方法以后再写上来
先看下may a 中底模 bake 出来的ao 效果
开始设置 may a 的ao 烘培： 第6 步里AO 设置比较重要 决定了烘焙贴图的质量，主要是3 个参数 samples 采样值越高，贴图精度越高， spread 是暗部阴影的浓度值，暗部颜色可dark 一栏设置，一般是黑色，亮部色也可在brigh栏设置
Max distance 是最大距离值（即相互阻挡信息有效的最大距离值）
这三个参数可以调整出较合适的AO 贴图
mentalray 渲染器的设置主要是抗锯齿的设置和图像锐利度的设置，以便得到图像清晰的贴图
在最后一步的设置里object to bake 是选择烘焙物体的模式，如场
