may a mental ray 烘焙AO 贴图 may a mental ray bake AO map AO 贴图在游戏美术制作中非常重要,常用的方法分 1.低模烘焙高模的细节,但是需要准备高低精度的模型. max 的方法是 投射贴图Projection map Projection map may a 的方法是 Target map Target map 2.直接烘焙(bake)场景中模型自身的light map,这种方法操作相对简单点,但是效果与模型的精度成正比,模型越精细,贴图效果越好。只需对渲染稍作设置,打上灯光,分好UV 即可。 max 的是选择bake 的贴图类型为light map light map 或在mental ray 渲染器下 bake Ambient Occlu sion 贴图 bake Ambient Occlu sion may a 则是批量烘焙 batch bake mental ray batch bake (mental ray ) 下面就介绍一下may a 烘焙AO 贴图may a bake AO map 的方法,其他几种方法以后再写上来。 先看下may a 中底模 bake 出来的ao 效果。 开始设置 may a 的ao 烘培: 第6 步里AO 设置比较重要 决定了烘焙贴图的质量,主要是3 个参数 samples 采样值越高,贴图精度越高, spread 是暗部阴影的浓度值,暗部颜色可dark 一栏设置,一般是黑色,亮部色也可在brigh栏设置。 Max distance 是最大距离值(即相互阻挡信息有效的最大距离值)。这三个参数可以调整出较合适的AO 贴图! mentalray 渲染器的设置主要是抗锯齿的设置和图像锐利度的设置,以便得到图像清晰的贴图。 在最后一步的设置里object to bake 是选择烘焙物体的模式,如场景中是多物体,可选ALL这样就会自动 烘焙场景中所有物体的AO 贴图,但是他们的图像大小尺寸是一致的。 如果不想这样也可以选择selected 对当前所选择的物体依次进行烘焙操作,便可设置各自的大小尺寸了。 color mode 也可选择occlu sion 模式 效果和时间都比 light and color 要高。 最后烘焙出来的AO 贴图自动存放于项目工程文件夹下的 renderData\mentalray \lightMap\***下