ADS2011 版图优化——以 Diplexer 设计为例 高峰 3100101290 ADS2011 版图中没有直接优化的功能,不能像 2006 一样直接在版图中定义参数,针对版图参数进行优化,它需要在版图中定义参数后,生成原理图原件(Symbol),然后在原理图中对生成元件的参数进行优化,最后在由优化好的原理图重新生成原理图才能够完成优化目标
下面以频分 2
4G 双工器为例具体说明 ADS 的优化过程
双工器设计指标: 与参考文献,“A compact Diplexer Using Square Open Loop with Stepped Impedance Resonators” 中的指标相同
画版图: (1) 在 ADS2011 中新建 Workspace,按照向导执行操作,在技术选择界面选择 0
0001mm 技术,以方便画图,如下: (2) 新建 Layout 版图,画好带通滤波器单元(双工器由两个带通滤波器构成): 使用,进行图形的绘制,注意应将图像画在 cond 层上
对于参考文献中不能确定的参数,课先大致估计,后期可以再优化
在画图过程中,需要将跳转栅格改到小才能画出变化0
05mm 的长度,在Option-Preference 菜单中修改,如下图: 电路图中的各尺寸参数在文献中大多有,没有的可用尺子量得大致值
画好后得到如下图的电路: 点击进行仿真设置以进行初次仿真,如下图: Substrate 与ports 为黄色感叹号,表示还未设置
点击 substrate,然后点击 New 按钮,新建基质文件,如下图: 上图中,顶层微带线与底层地面的材料均选用铜,厚度设置为0
2mm,中间介质采用默认的Alumina(氧化铝),厚度设置为3mm
这些参数由于文献中未提到,只能先设置为猜想的合适值,在后面仿真后手动修改,比较仿真结果找到比较合适的