各种 AMOLED 技术的介绍 本 文 介 绍 了 AMOLED 的 生 产 中 的 金 属 氧 化 物 技 术 、低 温 多 晶 硅 技 术 、非 晶 硅 技 术 、 微 晶 硅 技 术 、 有 机 膜 蒸 镀 技 术 、 光 射 出 方 式 技 术 ,并 对其 优 缺 点 进 行 了 分 析 。 （ 1） 金 属 氧 化 物 技 术 （ Metal oxide TFT) 这 种 生 产 技 术 目 前 被 很 多 厂 家 及 专 业 调 查 公 司 看 好 ， 并 认 为 是 将 来 大尺 寸 AMOLED 技 术 路 线 的 首 选 ， 各 个 公 司 也 有 相 应 的 大 尺 寸 样 品 展出 。 该 技 术TFT 基 板 在 加 工 过 程 中 ， 可 采 取 液 晶 行 业 中 常 见 的 、 成 熟 的大 面 积 的 溅 镀 成 膜 的 方 式 ， 氧 化 物 为 InGaO3(ZNO)5， 尽 管 这 种 器 件的 电 子 迁 移 率 较LTPS 技 术 生 产 出 来 的 产 品 要 低 ， 基 本 为10 cm2/V-sec， 但 这 个 迁 移 率 参 数 为 非 晶 硅 技 术 器 件 的 10 倍 以 上 ， 该 器件 电 子 迁 移 率 完 全 能 够 满 足 AMOLED 的 电 流 驱 动 要 求 ， 因 此 可 以 应用 于 OLED 的 驱 动 。 目 前 金 属 氧 化 物 技 术 还 处 于 实 验 室 验 证 阶 段 ， 世 界 上 没 有 真正进行 过量产 的 经验 ， 主要 的 因 素是 其再现性及 长期工 作稳定性还 需要 进一步改善和确认 。 （ 2） 低 温多 晶 硅 技 术 （ LTPS TFT) 该 技 术 是 目 前 世 界 上 唯一经过 商业 化 量产 验 证 、 在G4.5 代以 下生 产线 相 当成 熟 的 AMOLED 生 产 技 术 。 该 技 术 和非 晶 硅 技 术 主要 的 区别是 利用 激 光 晶 化 的 方 式 ， 将 非 晶 硅 薄膜 变 为 多 晶 硅 ， 从 而 将 电 子 迁 移 率 从0.5 提 高 到50-100 cm2/V-s， 以满 足 OLED 电 流 驱 动 的 要 求 。 该 技 术 经 过 多 年 的 商 业 化 量 产 ， 产 品 性 能 优 越 ， 工 作 稳 定 性 好 ， 同 时在 这 几 年 的 量 产 中 ， 其 良 品 率 已 得 到 很 大 的 提 高 ， ...
