Nikon光刻机2.装置的手动操作VIP专享VIP免费

2. 装置的手動操作 2-1 2. 装置的手動操作 進行装置的維護(清掃及注油)等時、有時需要使用手動操作NSR 的各部分。 此章主要説明手動操作Wafer stage 及Reticle stage 的方法。 為了実行手動操作、需要使用DIAGNOSE 指令内的BACKUP。 此BACKUP 還包含以下所示的手動操作以外的功能。 ① 手動操作Stage ・Wafer stage ・Reticle stage ② 確認軟件的状態 ・讀入Unit 状態 ・顕示Unit 軟件的版本 ・顕示MCSⅡ的版本 ③ 装置各部分的単独動作 ・確認自動対焦平行平板玻璃的動作 ・各種快門的Open/Close 動作 ・Stage 等的界限範囲駆動 ・曝光快門的単独動作(測定実際曝光時間) ・Wafer 的OF 信号的確認動作 ・確認Stage 各部的復原及真空的動作 2. 装置的手動操作 2-2 2.1 Stage 的手動操作 説明Wafer stage 及Reticle stage 的手動操作的方法。 2.1.1 手動操作的実行順序 ① 選択 DIAGNOSE 指令 ② 選択 BACKUP。 ③ 選択 MANUAL OPERATION。 2. 装置的手動操作 2-3 ④ 進行Wafer stage 的手動操作 ・此画面所顕示的時点、 Wafer stage 的手動操 作己処于使用可能的状 態。可以通過操縦杆移 動Wafer stage。 ・而且、還可以将Wafer stage 或Reticle stage 移動到指定位置。 (詳細内容請参照2.1.2 ~ 2.1.3) 想要結束手動操作時、按下PF2 鍵、按④ ~ ①的順序回到指令菜単。 2. 装置的手動操作 2-4 2.1.2 位置指定方法 実行MANUAL OPERATION 時、可以按以下順序将Wafer stage 高速移動到指定位置(位置指定)。 ① 移動光標 将光標移動到2.Wafer Stage Position 項目上。 ② 指定位置 由表 2-1 所示的(1) ~ (21)中、 指定想要移動Wafer stage 的 位置。 (各位置的詳細内容請参照表 2-1) ③ 按下PF1 鍵 通過按下PF1 鍵、Wafer stage 移動到②指定的位置。 由位置指定Wafer stage 高速移動後、可以通過操縦杆進行手動操作。 2. 装置的手動操作 2-5 表2-1 選択項目 Wafer stage 的移動位置 (1) FRONT-RIGHT=LP 将Wafer stage 移動到右前面 (2) FRONT-LEFT 将Wafer stage 移動到左前面 (3) BACK-RIGHT 将Wafer stage 移動到右後面 (4) BACK-LEFT 将Wafer stage 移動到左後面 (5) STAGE-CENTER 将Wafer stage 移動到中央 (6) MIRROR-POSI 将Fidu cial mark 鏡面移動到Reticle ...