1微波功率晶体管设计这里设计的微波功率晶体管将用于甲类放大, 其设计指标如下 : 工作频率 f=2GHz 功率增益 Kp=10Db 效率 n=40%输出功率0P =1W 电源电压ccV =20v 1
1 一般考虑 : 在发射极甲类运用时,根据图,晶 体管的集电极与发射极之间应当能承受的电压峰值为2ccV ,故240CEOccBVVV
2根据式0max2CccPIV,最大集电极工作电流为maxCI=0
根据式OCMPP,最大耗散功率为CMP=2
选取最高结温jMT=150℃;环境温度aT=25℃;根据式()jMaCMTTTPR,热阻TR =50℃/W
当考虑到各寄生参数和发射极整流电阻RE 对功率增益的影响后,高频优值2pK f可表示为2'8()TpobbbETefKfCrRf L当工作频率 f=2GHz 时,要获得功率增益Kp=10dB,则特征频率f T应该选的稍高一些
如果选取f T=3
6GHz,则要求12'()3
6 10obbbETeCrRf Ls这对 Cob、r bb’、RE和 Le 的要求是很高的
为此可考虑采取以下措施
(1) 采用砷硼双离子注入工艺,以获得较小的基极电阻r bb’和较小的宽度WB
(2) 采用 1um精度的光刻工艺,以获得较小的发射区宽度se,从而降低 r bb’和各势垒电容
(3) 基区硼离子注入剂量不宜过低,以降低r bb’,并保证基区不致在工作电压下发生穿通
(4) 采用多子器件结构,将整个器件分为四个子器件,每个子器件的输出功率为 0
25W,最大集电极工作电流为0
05A,热阻为 200℃/W
这种考虑有利于整个芯片内各点的结温均匀化,从而可降低对整流电阻RE的要求,因此可以选取最小的RE以提高 Kp
(5) 对部分无源基区进行重掺杂而形成浓硼区,这样可减小r bb’,同时还可因为浓硼区的结深较深而