从10μm 到45nm 英特尔处理器制作工艺发展史 发布时间:2007
14 05:15 自1947 年晶体管发明迄今,科技进步的速度惊人,催生了功能更为先进强大,又能兼顾成本效益和耗电量的产品
虽然科技进展迅速,但晶体管产生的废热和漏电,仍是缩小设计及延续摩尔定律 (Moore ' s Law) 的最大障碍,因此业界必须以新材料取代过去40 年来制作晶体管的材料
翻查晶体管历史,2007 年正好是晶体管诞生60 周年,首颗晶体管出现于1947 年12 月16日,贝尔实验室 (Bell Labs)的William Shockley、John Bardeen 和Walter Brattain 成功制作第一个晶体管,改变了人类的历史
那么,在这 60 周年的今天,Intel 公司将首次推出45nm 工艺处理器
Intel 首款 45nm 工艺处理器即将诞生 首先我们来了解一下摩尔定律,是由 Intel 的创始人戈登摩尔(Gordon Moore)通过长期的对比,研究后发现:CPU 中的部件(我们现在所说的晶体管)在不断增加,其价格也在不断下降
“随着单位成本的降低以及单个集成电路集成的晶体管数量的增加;到1975 年,从经济学来分析,单个集成电路应该集成65000 个晶体管
”Intel此后几年的发展都被摩尔提前算在了纸上,使人们大为惊奇,“摩尔定律”也名声大振
为了让人们更直观地了解摩尔定律,摩尔及其同事总结出一句极为精练的公式 “集成电路所包含的晶体管每 18 个月就会翻一番”
摩尔定律之父——戈登摩尔 之后的芯片内集成的晶体管数量也证实了他的这句话,并且发展速度还在加快
从芯片制造工艺来看,在1965 年推出的10 微米(μm)处理器后,经历了6 微米、3 微米、1 微米、0
5 微米、0
35 微米、0
25 微米、0
18 微米、0
13 微米、