1/12OLED照明工艺之真空蒸镀1.OLED技术简介2.OLED一般工艺流程3.OLED真空蒸镀4.OLED发展及前景1.OLED技术简介有机电致发光(OrganicElectroluminescentLight简称为OEL。它有两个技术分支,一个是分子量在500〜2000之间的小分子有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode)简称为OLED或SM-OLED;另一个是分子量在10000〜100000之间的高分子(又称聚合物)有机发光二极管(PolymerLight-EmittingDiode)简称为PLED或P-OLED。OLED的研究产生起源于一个偶然的发现。1979年的一天晚上,在Kodak公司从事科研工作的华裔科学家邓青云博士在回家的路上忽然想起有东西忘记在实验室里,回去以后,他发现黑暗中有个亮的东西。打开灯发现原来是一块做实验的有机蓄电池在发光。这是怎么回事?OLED研究就此开始,邓博士由此也被称为OLED之父。2/12MetjLCjihtdrflKtJDnTnni|H»rtLi沔(ETLfIkh:InjecllwUyer(Hit}OLEDStructureSubstratAhodtOrQinif_EmUtrfC■LightOutput!光线输出IMetalCathode;金属阴极■ETL:电子传输层■OrganicEmitteisi有机发光■ITOAnode:ITO阳极IGlassSubstrate:玻璃基板■HIL;空穴注入层OLED显示器件是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层,发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时,发光层就产生光辐射。OLED的发光机理和过程是从阴、阳两极分别注入电子和空穴,被注入的电子和空穴在有机层内传输,并在发光层内复合,从而激发发光层分子产生单态激子,单态激子辐射衰减而发光。作为新技术OLED有很多优点:1、厚度可以小于1毫米,仅为LCD屏幕的1/3,并且重量也更轻;2、固态机构,没有液体物质,因此抗震性能更好,不怕摔;3、几乎没有可视角度的问题,即使在很大的视角下观看,画面仍然不失真;4、响应时间是LCD的千分之一,显示运动画面绝对不会有拖影的现象;5、低温特性好,在零下40度时仍能正常显示,而LCD则无法做到;6、发光效率更高,能耗比LCD要低;7、能够在不同材质的基板上制造,可以做成能弯曲的柔软显示器。2.OLED一般工艺流程OLED器件的制备工艺包括:IT0玻璃清洗一光刻一再清洗一前处理一真空蒸镀有机层一真空蒸镀背电极一真空蒸镀保护层一封装一切割一测试一模块组装一产品检验及老化实验等十几道工序,其几个关键工序的工艺如下:(1)ITO玻璃的洗净及表面处理ITO作为阳极其表面状态直接影响空穴的注入和与有机薄膜层间的界面电子状态及有机材料的成膜性。如果ITO表面不清洁,其表面自由能变小,从而导致蒸镀在上面的空穴传输材料发生凝聚、成膜不均匀。也有3/12可能导致击穿,使面板短路。ITO表面的处理过程为:洗洁精清洗一乙醇清洗一丙酮清洗一纯水清洗,均用超声波清洗机进行清洗,每次洗涤采用清洗5分钟,停止5分钟,分别重复3次的方法。然后再用红外烘箱烘干待用。对洗净后的ITO玻璃还需进行表面活化处理,以增加ITO表面层的含氧量,提高ITO表面的功函数。也可以用比例为水:双氧水:氨水=5:1:1混合的过氧化氢溶液处理ITO表面,使ITO表面过剩的锡含量减少而氧的比例增加,以提高ITO表面的功函数来增加空穴注入的几率,可使OLED器件亮度提高一个数量级。ITO玻璃在使用前还应经过“紫外线一臭氧”或“等离子”表面处理,主要目的是去除ITO表面残留的有机物、促使ITO表面氧化、增加ITO表面的功函数、提高ITO表面的平整度。未经处理的ITO表面功函数约为4.6eV,经过紫外线一臭氧或等离子表面处理后的ITO表面的功函数为5.0eV以上,发光效率及工作寿命都会得到提高。对ITO玻璃表面进行处理一定要在干燥的真空环境中进行,处理过的ITO玻璃不能在空气中放置太久,否则ITO表面就会失去活性。4/12(2)ITO的光刻处理工艺光刻工序是从基板投片开始,经过清洗、涂胶、烘干、曝光、显影、蚀刻、脱膜等工艺手段,在基板上形成Cr等金属辅助电极图案、IT0图案、绝缘层(Insulator)图案、阴极隔离柱(Seperator)图案四部分图案成形组成,具体如下:以上工序中的涂胶、软烘、对准曝光、显影、硬烘一般需要在100级,温度23±3°C,湿度50±10%RH的黄光区中进行;预/主清洗、Cr/IT0蚀刻在...